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先進製程 2016-12-19T06:25:16+00:00

先進製程

隨著半導體製程以摩爾定律的規律不斷進步,我們目前已經成功分析超過20顆的28nm的IC,並製成電路分析報告。這其中的關鍵在於去層 (Delayer)的物理、化性的處理技術。

先進製程的Delayer工序十分的複雜,並且具有相當高的多樣性。同樣的28nm製程的IC,可能使用了不同的金屬層介質、厚度及材質。要能成功的完成先進製程的Delayer工序,必須累積相當多的經驗並且有系統的整理其中的化學配方。這一點,就是CPS的重要資產。

在實務經驗中,我們常常無法取得充足的IC樣品,這也是造成Delayer工序無法順利完成的原因之一。我們所累積的經驗及配方,讓我們能夠有相當大的機會,以不充份IC樣品數量順利完成客戶的囑託,完成電路分析的工作。

這是CPS不可取代的競爭力,而我們正快速的累積對於不同製程的經驗,這也是CPS總是能獲得我們客戶夥伴關係的重要原因之一。我們同時也正在研製更先進製程的去層技術,期望可以為你未來的需求做準備。

先進實驗室充滿了極其昂貴的各項儀器,即使7奈米的晶片,我們也能順利完成去層(Delayer)以達成完美的晶片拍攝工作。

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